誤區(qū)一：技術(shù)方案交待不清楚，很多人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術(shù)方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難，在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時，他們會以技術(shù)保密為由回避，這些發(fā)明人其實(shí)就是沒有把握好保密與公開的度，他們過度地要求保密，害怕多透露一點(diǎn)技術(shù)信息，而恰恰是這種“過度”忽視了技術(shù)方案交待不清楚，公開不充分的問題。

　　誤區(qū)二：專利申請前不做任何檢索，有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定，甚至根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現(xiàn)象，全世界范圍內(nèi)的任何文獻(xiàn)都可影響技術(shù)方案的新穎性。但在使用方面，只有國內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。

　　誤區(qū)三：先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利，有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護(hù)，由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護(hù)。

　　誤區(qū)四：對專利缺乏有效的管理，有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理，專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價(jià)值還在交納年費(fèi)，有的專利權(quán)已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。

　　誤區(qū)五：缺乏長遠(yuǎn)的專利戰(zhàn)略規(guī)劃，有計(jì)劃地實(shí)施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費(fèi)，一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結(jié)果導(dǎo)致授權(quán)率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費(fèi)時間和精力，一個企業(yè)應(yīng)該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及外圍專利狀況有十分明確的認(rèn)識，從而找到技術(shù)突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，贏得市場競爭。

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